支撐基底是掃描電鏡（SEM）樣品的重要組成部分，對(duì)SEM成像效果具有重要影響。以下是SEM對(duì)支撐基底的要求：

導(dǎo)電性好：SEM使用的支撐基底須具有良好的導(dǎo)電性能，以避免在成像過(guò)程中電荷積聚導(dǎo)致的干擾信號(hào)。

機(jī)械穩(wěn)定性高：支撐基底須具有足夠的機(jī)械穩(wěn)定性和剛性，以保證在樣品加工、制備和成像過(guò)程中的穩(wěn)定性。

表面平整度高：支撐基底的表面應(yīng)該非常平整，以避免在成像過(guò)程中產(chǎn)生的高低起伏或其他形狀不規(guī)則的干擾信號(hào)。

光學(xué)性能好：支撐基底的光學(xué)性能應(yīng)該好，即在SEM成像過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)光學(xué)畸變或干擾信號(hào)。

以上就是澤攸科技小編對(duì)掃描電鏡對(duì)支撐基底要求的介紹。更多掃描電鏡信息及價(jià)格請(qǐng)咨詢(xún)